全自動磁控濺射系統帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達到6"旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內可以達到10-6Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。全自動磁控濺射系統的產品特點：不銹鋼腔體260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵13.56MHz，300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源晶振夾具具有的帶觀察視窗的腔門易于上下載片基于LabV...

微波等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機的優勢：一、清洗對象經等離子清洗之后是干燥的，不...

熱真空試驗箱由真空容器、熱沉、真空泵組、冷卻系統、加熱系統、控制及數據采集系統及其他特殊需求的機構組成。設備采用模塊化設計，可以根據不同的試驗需求所組合為*適用于用戶的個性化試驗裝置。*的程序化控制單元設計，具有靈活的控制功能，對于典型的試驗*實現了真正意義的自動化控制。熱真空試驗箱的設備特點：真空泵組所用的真空泵和各種配件均采用國際設備，確保設備在整個工作使用范圍內均能高效、穩定地運行；高強度、高可靠性的結構設計和熱沉設計確保了設備的高可靠性；專門定制的高強度氟橡膠密封條–...

光學鍍膜設備廣泛應用于數碼科技(成像、顯示、電路、結構裝飾件)，傳統光學、眼鏡，科學儀器、光通信、半導體、新能源等。光學鍍膜設備光學薄膜是建立在光學元件上鍍特定的膜質來改變光波傳遞的特性、干涉光的效果達到的效果，高科技改變著人們的生活，光學鍍膜設備自然受到市場青睞，后期將會有更廣闊的前景，那么光學薄膜在光學系統中的啟到哪些作用呢？1、提高光學效率，減少雜光，例如反射鏡鍍制光學薄膜，提高或者減少光的反射效果。高反射鏡只取反射光，盡量減少透射光；減反射鏡減少光學元器件表面的發射光...

進口晶圓清洗機采用Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。進口晶圓清洗機設備特點：▲可更換清洗吸盤，可使用4-12英寸的清洗吸盤；▲操作程序可按作業需求編寫調整，設備運行流程、清洗時間及各項參數可自行編制；▲設備運行狀態及參數在線實時監控，自動門配有安全光柵，保證操作安全；▲采用真空吸附式清洗盤，晶元夾具的取放更安全、方便；▲擺臂式清洗，清洗范圍可編制...

等離子體增強MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機物化學氣相沉積),針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有加熱的氣體管路、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5x10-7Torr極限真空)，*的安全互鎖。等離子體增強MOCVD技術特點：臺式系統5個帶獨立冷卻槽的...

光學鍍膜系統的清洗：設備使用一個星期后（三班），因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在水溶液里，水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。最后安裝襯板...

等離子去膠機和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。等離子去膠機的工作原理：等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應系統中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號發生器產生高頻信號，使石英管內形成強的電磁場，使氧氣電離，...