NSC-1000磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

磁控濺射技術

NSC-1000磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達6"旋轉平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-1000帶有10”派熱克鐘罩腔體，2個2”的磁控管，DC直流電源用于濺射金屬，并帶有膜厚監測儀(選配)。由于NSC-1000的空間有限，我們不能在NSC-1000系統上提供更多的電源和磁控管。我們可以提供我們的NSC-1000系統，用于SEM應用，也可以用于濺射金屬到z大6”的晶圓片。

NSC-1000磁控濺射系統產品特點：

• 不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
• 70l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
• 1KW DC直流電源
• 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
• 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
• 基于LabView軟件的PC計算機控制
• 帶密碼保護功能的多級訪問控制
• *的安全聯鎖功能

選配項：

• Thickness Monitor   膜厚監測

應用：

• SEM應用
• 濺射金屬，可達6"的晶圓片