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        技術文章/ article
        
        
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        看完這篇文章才知道硅片清洗機的應用范圍是如此的廣泛
        
            
        更新時間：2021-06-25      瀏覽次數：1363
        
            
        
            	 

            硅片清洗機可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到優化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

            硅片清洗機應用：

            帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

            Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗

            CMP處理后的晶圓片清洗

            晶圓框架上的切粒芯片清洗

            等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

            帶保護膜的分劃版清洗

            掩模版空白部位或接觸部位清洗

            X射線及極紫外掩模版清洗

            光學鏡頭清洗

            ITO涂覆的顯示面板清洗

            兆聲輔助的剝離工

            硅片和藍寶石片清洗

            帶晶圓框架的芯片清洗

            FSI清洗

            硅片和藍寶石片清洗

            帶晶圓框架的芯片清洗

            顯示平板，ITO涂層顯示屏清洗

            帶圖案及無圖案掩模版清洗

            帶保護膜分劃板的背面清洗

            薄膜結構膠粘劑清洗

            光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠

            背面多晶去除

            顯影和其他刻蝕應用
        
            
        
         	
                                            
        
        
      
      
    
        
  
        

        

 



        
  
        
    
    
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